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大道 英樹; 吉田 勝; 浅野 雅春; 長岡 範安*; 久保田 仁*; 片貝 良一*; Spohr, R.*; Reber, N.*; Wolf, A.*; G.M.Alder*; et al.
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research B, 131(1-4), p.350 - 356, 1997/00
被引用回数：20 パーセンタイル：81(Instruments & Instrumentation)機能性をもつ有機多孔膜の合成を目的として、核子あたり10MeVのエネルギーの各種の重イオンビームをポリエチレンテレフタレート、CR-39などの高分子フィルムに照射した。イオンを照射したときに発生する2次電子の寄与も考慮した限定的エネルギー損失RELとイオンの飛跡に沿った高分子フィルムの相対的エッチング速度Qとの関係を求め、高分子フィルムに円筒状の孔を形成する条件を見い出した。次に、重合体がゲルの性質を示すモノマーを多孔膜の孔の部分において放射線グラフト重合法により結合させた。この多孔膜を水中に浸漬したとき、結合したゲルの温度変化による膨潤・収縮現象に基づき、多孔膜の孔を水の温度により開閉できることを示した。この多孔膜を用いて、水、コリン、インシュリンなどの透過性を調べたところ、ゲルの相転移点付近で透過速度に急激な変化が起こることを見い出した。
荒川 哲人*; 笠井 昇; 山本 春也; 瀬口 忠男
JAERI-Review 95-019, 0, p.80 - 82, 1995/10
高分子フィルムにNi
(15MeV)を照射したときの光の吸収量(吸光度)の変化を調べ、電子線照射と比較した。イオンの吸収線量を求め、線量に対する吸光度の変化を電子線照射と比較すると、約200倍大きくなった。しかし、電子線の場合にも、電流(線量率)を上げると、吸光度が増大することから、イオン照射では線量率の効果が大きく寄与していると考えられる。
石垣 功
高分子, 30(10), p.754 - 755, 1981/00
高分子フィルムの付加価値を高めるための化学改質技術として、放射線グラフト重合、放射線橋かけ、およびプラズマ重合について述べた。これらの化学改質技術を用いた高分子の改質は広範囲に検討されているが、高分子フィルムの改質では、接着性の改良、溶質やガスなどの選択透過性の付与あるいは改良、血液および生体組織親和性の付与などが主なものとして挙げられる。
